光源系統裝置驗收階段圓滿完成,接下來就是高階光刻機的組裝。

除了光源系統、雙工作檯系統和光學系統，餘下零件所需還有更精確的鏡頭組、反射鏡，以及arf光刻膠等,國內暫時還沒有研發出來。

但這都不是問題。

因為最艱難的光源系統和雙工作檯系統已經被圓滿攻破,剩下的arf光刻膠等技術要求很高,可相對來說，難度係數不是特別大。

林成建也很興奮，他勉強保持冷靜,對盛明安和陳驚璆說：「光源系統裝置驗收透過，ic設計部正在攻破20n以下的鰭式場效應電晶體工藝，儘量保證我們能夠生‌產出135n工藝以上更高精度的晶片。」

鰭式場效應電晶體是一種防止因高精度工藝而導致電晶體失去開關作用而發明的工藝，採用3d立體‌電晶體架構，突破晶片電晶體的22n工藝極限，不直接作用於光刻機，而是ic設計工程師必須掌握的一項核心技術。

陳驚璆：「那就交給你了。」

「放心,我會儘快解決這個技術難點。」林成建現在充滿信心，又對盛明安說：「保險起見，光源系統裝置最好趕緊申請專利保護。」

盛明安：「我知道的。」

光源系統裝置雖有多人團隊協作發明,但真‌正突破該關鍵性技術的人是盛明安，所以他是申請專利的不二人選。

程院長凝視光源系統裝置,長久無言。

直到林成建在盛明安身邊提議專利申請,他才回‌過神來,深深撥出胸中那口沉澱多年的鬱氣,心情暢快，問盛明安：「你打算申請提前畢業？」

盛明安驚訝：「您知道？」

「你是張教授的得意門生，他經常在外面吹噓你，申市光機所誰不知道？」程院長一想起張群芳炫耀的嘴臉就想翻白眼,他說：「如果你想申請提前畢業，光源系統被攻破這份科研成果的確能讓科大酌情考量，同意你的申請。不過同意是一方面，能不能透過考試又是另一方面的事。」

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