點半，會場裡已經坐滿了人。

這一場發布會，顧松帶著頭盔進來的。

真正厲害的人可以享受一點特殊的寬容？總之並沒有人表露出好笑的表情。

事實上，從顧鬆開始登場之後，人們就只關注大螢幕上冒出什麼樣的影象和文字來，從他嘴裡又會說出什麼話。

對專利授權甚至轉讓存有意思的人，帶著專家準備進行評估。

暫時利益無關的人，也在關注有沒有會影響自己行業和專案的科技突破。

負責同聲傳譯的女孩子已經準備好了。

顧松再次露出一個燦爛的笑容：「讓大家久等了，這就開始。讓我們先從很多人最關注的地方開始吧。22奈米製程工藝，以及euv光刻機。」

英特爾的高管猛的心神巨震。

euv光刻機？

其他懂這個的，立刻張大了嘴巴。還真有未公佈的新成果？

什麼情況？浸潤式光刻機不是剛做出來不久嗎？怎麼就有極紫外光刻機了？

asl倒是一直在做，原來說04年推出的，現在肯定是集中精力改進浸潤式光刻機去了，euv光刻機沒有新訊息。

顧松不等眾人疑惑不解，就說道：「浸潤式光刻，經過我們的一段實驗和論證，它的有效極限，應該就是22奈米。所以，極紫外光刻的研發已經提上了日程，我們只取得了很小的進展。之所以在這裡提出來，也是向各位有需要的夥伴發出邀請，一起攻克這個難題。」

聽到這話，凱文·卡爾心頭一動，這是一個很好的訊號。

唯一隻需要考慮的，就是老傢伙們，願不願意與華國展開合作。

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